满足各种工艺要求
既能与现有设备兼容，又能满足各种工艺要求的曝光设备。
NSR-2205iL1 i线步进式光刻机，可与各种半导体器件配合使用。该设备性价比优异，对晶圆材质的包容性强，能为各种半导体器件的高效率生产做出贡献。它与尼康现有的i线步进式光刻系统高度兼容，是既有的理想替代产品。
满足各种工艺要求
NSR-2205iL1
2023年8月31日公布新品信息
缩小投影倍率5倍i线步进式光刻机
介绍视频
NSR-2205iL1的特点
应对多样化需求实现高性价比
与尼康既有设备的高兼容性
为长期使用而设计的设备
应对多样化需求，实现高性价比
应对功率半导体、通信用半导体，MEMS等
各种器件
- 兼容各种晶圆尺寸、厚度和翘曲度
- 支持晶圆尺寸切换，扩大客户使用范围
- 配备Wide DOF（扩展景深）和多点自动对焦（AF）
- 加强对化合物半导体工艺的应对
产品定位图
与尼康既有设备的高兼容性
为长期使用而设计的设备
正在使用尼康的i线曝光设备的客户，可以继续使用所持有的资产（mask、recipes等）
我们继续支持客户的生产活动，致力成为客户的合作伙伴。
- 可以继续使用所持有mask、recipes等
- 提升维护性
- 着眼长期利用，从零部件层面审查设计
主要性能
| 分辨率 | ≦ 350 nm※1 |
|---|---|
| NA | 0.45 |
| 曝光光源 | i-line (365 nm wavelength) |
| 缩小倍率 | 1:5 |
| 最大曝光范围 | 22 mm × 22 mm |
| 重合精度 | SMO※2: ≦ 70 nm※1 |
| 主要特征 |
|
※1 option选项
※2 SMO (Single Machine Overlay)：同一型号机器之间的重合精度
展会信息
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